半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)生的廢氣通過(guò)分類密閉收集處理，有酸性廢氣、堿性廢氣、有機(jī)廢氣、有毒有害廢氣、一般尾氣等。不同類型的廢氣所選用的半導(dǎo)體環(huán)保設(shè)備有所不同。處理系統(tǒng)有機(jī)臺(tái)端的POU本地處理和廠務(wù)端（Fab）中央處理系統(tǒng)；如熱氧化、CVD、干法刻蝕、離子注入等工藝制程中會(huì)產(chǎn)生特性氣體（硅烷、砷烷、磷烷、全氟烴、含鹵素氣體等有毒和高沸點(diǎn)廢氣），先經(jīng)本地Local Scrubber預(yù)處理，后經(jīng)入廠務(wù)端的中央處理系統(tǒng)集中處理。 中央處理系統(tǒng)集中處理有酸性廢氣處理系統(tǒng)（SEX）、堿性廢氣處理系統(tǒng)（AEX）、有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)（VEX）、砷排處理系統(tǒng)（ASX）、一般排氣系統(tǒng)（GEX）等，其中一般排氣系統(tǒng)所排廢氣無(wú)污染，起排風(fēng)散熱作用。

　　半導(dǎo)體芯片加工廠的工業(yè)廢氣主要包含了硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣、氨氣、硫酸霧等的酸/堿廢氣以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷總烴等的有機(jī)廢氣，具有揮發(fā)性的VOCs以及酸堿廢氣主要來(lái)源于對(duì)芯片的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過(guò)程中產(chǎn)生的，這部分的廢氣濃度小且排放量大。

　　半導(dǎo)體廢氣采用的是洗滌塔廢氣處理設(shè)備進(jìn)行處理的，洗滌塔分為立式和臥式，這兩者之間的區(qū)別就在于立式廢氣洗滌塔是氣液兩相逆流接觸，而臥式廢氣洗滌塔是氣液兩相交叉流接觸。

　　洗滌塔廢氣處理設(shè)備主要由循環(huán)水箱、循環(huán)水管路、除霧層、填料層以及塔體組成，設(shè)備的工作流程大致為：酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風(fēng)機(jī)→煙囪(達(dá)標(biāo)排放)。

　　除了采用洗滌塔設(shè)備還可以選擇采用沸石轉(zhuǎn)輪或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐。

總之，半導(dǎo)體廠廢氣處理設(shè)備有很多種，每一種都有其特定的作用。半導(dǎo)體廠必須根據(jù)其排放的廢氣的特性來(lái)選擇合適的廢氣處理設(shè)備，以達(dá)到的凈化效果。我們應(yīng)該積極支持半導(dǎo)體廠的環(huán)保工作，保護(hù)我們的環(huán)境。